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Pvd टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.6%, ASTM B265 कोटिंग के लिए एल्यूमीनियम टाइटेनियम मिश्र धातु
2021-11-02 12:45:05
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सोलर फोटोवोल्टिक के लिए पॉलिश्ड सिल्वर मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य 95% Ti सामग्री
2021-11-02 14:08:18
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Dia.3"X3mm 2N5 टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.995% Ti धातु सामग्री:
2021-11-02 16:34:15
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टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री Pvd वैक्यूम कोटिंग के साथ Gr1 टाइटेनियम ऑक्साइड
2021-11-02 14:04:47
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इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री उपकरण के लिए टीआईबी 2 डाइबोराइड टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य सीएनसी मिलिंग:
2021-11-02 12:33:48
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99.9% टाइटेनियम टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य रोडियम सामग्री गोल आकार:
2021-11-02 13:57:26
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सीएनसी खराद सतह टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य व्यास 95 मिमी 100 मिमी
2021-11-02 12:29:03
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व्यास 95 मिमी धातु स्पटरिंग लक्ष्य ग्रेड 1, लेजर मेमोरी सीएनसी मशीनिंग टाइटेनियम:
2021-11-02 13:49:54
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शुद्ध 99.99% टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य ASTM B265 Gr1 सामग्री:
2021-11-02 16:34:20
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जीआर 5 टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य पीवीडी कोटिंग, एएसटीएम बी 265 टाइटेनियम मिश्र धातु भागों
2021-11-02 16:34:24
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