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उत्पाद विवरण:
भुगतान & नौवहन नियमों:
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| कीवर्ड: | उच्च शुद्धता धातु लक्ष्य टाइटेनियम | आवेदन: | लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, |
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| ग्रेड: | जीआर1 | तिवारी सामग्री (%): | 99.6%, 99.99%, 99, 99.95%-99.999%, 95% |
| आकार: | गोल, सीमा शुल्क मेड, गोल और आयत, ट्यूब / प्लेट, अनुरोध के रूप में | सतह: | पॉलिश, सफाई, सीएनसी खराद सतह, मसालेदार, उज्ज्वल |
| प्रोडक्ट का नाम: | टाइटेनियम डिस्क, टाइटेनियम बार, क्रोमियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु, तिवारी फ्लैट स्पटरिंग लक्ष्य, टाइटे | मानक: | एएसटीएम मानक बी265 ग्रेड1 |
| नाम: | उच्च शुद्धता GR1 स्पटरिंग टाइटेनियम लक्ष्य | प्रकार: | इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री उपकरण, गोल लक्ष्य, उच्च शुद्धता CrAl, धातु टाइटेनियम |
| कीवर्ड: | टाइटेनियम बार्स चीन, टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य, शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य, MMO कोटिंग टाइटेनियम एनोड | नाम: | उच्च शुद्धता TiB2 टाइटेनियम डाइबोराइड स्पटरिंग लक्ष्य |
| प्रमुखता देना: | TiB2 टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य,डाइबोराइड टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य,इलेक्ट्रोकैमिस्ट्री उपकरण सीएनसी मिलिंग टाइटेनियम |
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उच्च शुद्धता TiB2 टाइटेनियम डाइबोराइड स्पटरिंग लक्ष्य
स्क्वायर शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता 99.995% परिपत्र टीआई टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
पीवीडी कोटिंग ग्रेड 1 टाइटेनियम आर्क लक्ष्य टीआई लक्ष्य टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
99.9% Tiox टाइटेनियम ऑक्साइड रोटरी लक्ष्य स्पटरिंग लक्ष्य Pvd वैक्यूम कोटिंग टाइटेनियम ऑक्साइड TIOX स्पटरिंग लक्ष्य
उच्च शुद्धता TiB2 टाइटेनियम डाइबोराइड स्पटरिंग लक्ष्य
| ★ सामग्री | |
| टाइटेनियम | जीआर।1 |
| मुख्य शब्द | टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य |
| टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य, शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य लक्ष्य, MMO कोटिंग टाइटेनियम एनोड | |
| आवेदन: | |
| ◆ लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, | |
| इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रक पतली फिल्म सामग्री को स्पटरिंग करता है, | |
| सेमीकंडक्टर एकीकृत परिपथ, | |
| ◆ सौर फोटोवोल्टिक, रिकॉर्डिंग माध्यम, | |
| फ्लैट डिस्प्ले, वर्कपीस सरफेस कोटिंग आदि। | |
| सहनशीलता | +/- 0.01 मिमी |
| सतह | पॉलिश, सफाई, सीएनसी खराद सतह, मसालेदार, उज्ज्वल |
| आयाम | ग्राहक के अनुरोध के अनुसार। |
| तिवारी सामग्री (%) | 99.96% 99.98% 99.99% |
| घनत्व | 4.51 ग्राम/सेमी3 |
| रंग | टाइटेनियम मूल रंग |
| सेवाएं: सीएनसी, मशीनिंग, मोड़, मिलिंग, मुद्रांकन, कास्टिंग, ड्रिलिंग, पीसने, थ्रेडिंग इत्यादि। | |
| व्यापार की शर्तें | EXW, एफओबी, सीआईएफ |
| अदायगी की शर्तें | टी/टी, एल/सी |
| पैकिंग | प्लास्टिक पेपर अंदर, प्लाईवुड केस बाहर। |
| गुणवत्ता नियंत्रण | अल्ट्रासोनिक परीक्षण और सामग्री परीक्षण रिपोर्ट |
| डिलीवरी का समय | 7-30 दिन |
| MOQ | छोटे आदेश मात्रा स्वीकार्य है। |
| व्यापार के प्रकार | निर्माता, विदेशी व्यापार |
"स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक और सूचना उद्योगों में उपयोग किए जाते हैं, जैसे कि एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रक, आदि; उनका उपयोग ग्लास कोटिंग के क्षेत्र में भी किया जा सकता है; उनका उपयोग भी किया जा सकता है उद्योगों में जैसे पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध, उच्च श्रेणी के सजावटी उत्पाद, आदि।
स्पटरिंग लक्ष्य की आवश्यकताएं पारंपरिक सामग्री उद्योग की तुलना में अधिक हैं, जैसे आकार, समतलता, शुद्धता, अशुद्धता सामग्री, घनत्व, एन / ओ / सी / एस, अनाज का आकार और दोष नियंत्रण;उच्च या विशेष आवश्यकताओं में शामिल हैं: सतह खुरदरापन, प्रतिरोध मूल्य, अनाज के आकार की एकरूपता, संरचना और संरचना एकरूपता, विदेशी पदार्थ (ऑक्साइड) सामग्री और आकार, पारगम्यता, अल्ट्रा-उच्च घनत्व और अल्ट्रा-फाइन अनाज, आदि। मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग एक नया है भौतिक वाष्प कोटिंग विधि, जो मढ़वाया सामग्री पर इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन और ध्यान केंद्रित करने के लिए एक इलेक्ट्रॉन बंदूक प्रणाली का उपयोग करती है, ताकि थूक वाले परमाणु गति रूपांतरण के सिद्धांत का पालन करें और एक फिल्म बनाने के लिए उच्च गतिज ऊर्जा के साथ सामग्री से सब्सट्रेट तक उड़ जाएं।इस मढ़वाया सामग्री को स्पटरिंग लक्ष्य कहा जाता है।
प्रश्न: हमें क्यों चुना?
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A5: ISO9001:2015 प्रमाणन
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