सौर फोटोवोल्टिक के लिए हॉट रोल्ड 99.999% टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य सीएनसी मशीनिंग

ग्रेड 1 स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री शुद्ध टाइटेनियम सामग्री 4.51 ग्राम / सेमी³ घनत्व

एलसीडी स्क्रीन सीएनसी मशीन के लिए धातु टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य मैग्नेट्रोन

99.96% टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य, एमएमओ लेपित टाइटेनियम एनोड ग्रेड 1 पीवीडी लेपित

लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले के लिए सीएनसी मशीनिंग टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट 99.6% जाली है

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

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High-purity and high-density titanium sputtering target Titanium thin film material
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Titanium target High-purity and high-density sputtering targets include: Sputtering target (purity: 99.9%-99.999%) Titanium target plate High-purity and high-density titanium sputtering target Titanium target ... और अधिक पढ़ें

2022-01-17 14:06:50

Titanium target plate grade 1 High-purity titanium target gr.1 Sputtering
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Titanium target High-purity and high-density sputtering targets include: Sputtering target (purity: 99.9%-99.999%) Titanium target plate Titanium target Titanium sputtering target material Used for liquid ... और अधिक पढ़ें

2022-01-17 14:06:50

99.99% High Purity Titanium Target Titanium Round Target Strip Target sputtering target
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टाइटेनियम लक्ष्य उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व वाले स्पटरिंग लक्ष्यों में शामिल हैं: स्पटरिंग लक्ष्य (शुद्धता: 99.9%-99.999%) टाइटेनियम लक्ष्य टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमो... और अधिक पढ़ें

2022-01-17 13:55:38

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