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उत्पाद विवरण:
भुगतान & नौवहन नियमों:
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| कीवर्ड: | उच्च शुद्धता धातु लक्ष्य टाइटेनियम | आवेदन: | लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, |
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| ग्रेड: | जीआर1 | नाम: | टाइटेनियम नाइओबियम लक्ष्य |
| तिवारी सामग्री (%): | 99.6%, 99.99%, 99, 99.95%-99.999%, 95% | आकार: | गोल, सीमा शुल्क मेड, गोल और आयत, ट्यूब / प्लेट, अनुरोध के रूप में |
| सतह: | पॉलिश, सफाई, सीएनसी खराद सतह, मसालेदार, उज्ज्वल | प्रोडक्ट का नाम: | टाइटेनियम डिस्क, टाइटेनियम बार, क्रोमियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु, तिवारी फ्लैट स्पटरिंग लक्ष्य, टाइटे |
| प्रमुखता देना: | पॉलिश मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य,सीएनसी मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य,फ्लैट डिस्प्ले स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री |
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम नाइओबियम रोटरी लक्ष्य स्पटरिंग लक्ष्य
स्क्वायर शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता 99.995% परिपत्र टीआई टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
पीवीडी कोटिंग ग्रेड 1 टाइटेनियम आर्क लक्ष्य टीआई लक्ष्य टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
लक्ष्य शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य, MMO कोटिंग टाइटेनियम एनोड
| ★ सामग्री | |
| टाइटेनियम | जीआर।1 |
| मुख्य शब्द | टाइटेनियम लक्ष्य |
| टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य, शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य लक्ष्य, MMO कोटिंग टाइटेनियम एनोड | |
| आवेदन: | |
| ◆ लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, | |
| इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रक पतली फिल्म सामग्री को स्पटरिंग करता है, | |
| सेमीकंडक्टर एकीकृत परिपथ, | |
| ◆ सौर फोटोवोल्टिक, रिकॉर्डिंग माध्यम, | |
| फ्लैट डिस्प्ले, वर्कपीस सरफेस कोटिंग आदि। | |
| सहनशीलता | +/- 0.01 मिमी |
| सतह | पॉलिश, सफाई, सीएनसी खराद सतह, मसालेदार, उज्ज्वल |
| आयाम | ग्राहक के अनुरोध के अनुसार। |
| तिवारी सामग्री (%) | 99.96% 99.98% 99.99% |
| घनत्व | 4.51 ग्राम/सेमी3 |
| रंग | टाइटेनियम मूल रंग |
| सेवाएं: सीएनसी, मशीनिंग, मोड़, मिलिंग, मुद्रांकन, कास्टिंग, ड्रिलिंग, पीसने, थ्रेडिंग इत्यादि। | |
| व्यापार की शर्तें | EXW, एफओबी, सीआईएफ |
| अदायगी की शर्तें | टी/टी, एल/सी |
| पैकिंग | प्लास्टिक पेपर अंदर, प्लाईवुड केस बाहर। |
| गुणवत्ता नियंत्रण | अल्ट्रासोनिक परीक्षण और सामग्री परीक्षण रिपोर्ट |
| डिलीवरी का समय | 7-30 दिन |
| MOQ | छोटे आदेश मात्रा स्वीकार्य है। |
| व्यापार के प्रकार | निर्माता, विदेशी व्यापार |
उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व स्पटरिंग लक्ष्यों में शामिल हैं:
स्पटरिंग लक्ष्य (शुद्धता: 99.9% - 99.999%)
टाइटेनियम लक्ष्य टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी के लिए प्रयोग किया जाता है,
पतली फिल्म सामग्री, अर्धचालक एकीकृत परिपथों को स्पटरिंग करने वाले इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रक,
सौर फोटोवोल्टिक, रिकॉर्डिंग मीडिया, विमान प्रदर्शन और वर्कपीस सतह कोटिंग
प्रश्न: हमें क्यों चुना?
ए 1: टाइटेनियम उत्पादों को बनाने के लिए हमारे पास 14 साल का अनुभव है।
ए 2: नमूना आदेश स्वीकार्य है।
A3: कम कीमत, अच्छी गुणवत्ता और कम प्रसव के समय।
ए 4: उद्धरण 24 घंटों के भीतर बनाया जा सकता है।
A5: ISO9001:2015 प्रमाणन
A6: हमें चित्र दें, अपने चित्र और विचारों को वास्तविकता बनाएं!
उ7: तृतीय-पक्ष गुणवत्ता निरीक्षण रिपोर्ट प्रदान करें।
व्यक्ति से संपर्क करें: Ms. Grace
दूरभाष: +8613911115555
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